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薄膜晶點形成的原因及消除方法
  瀏覽次數(shù):3260  發(fā)布時間:2016年03月04日 11:09:56
[導(dǎo)讀] 1更哄、什么是晶點晶點實際上是過度聚合物芋齿,即:晶點部位聚合物的分子量要高于周圍同種聚合物的分子量。由于分子量高成翩,因此觅捆,晶點部


      1、什么是晶點

晶點實際上是“過度聚合物”麻敌,即:“晶點”部位聚合物的分子量要高于周圍同種聚合物的分子量栅炒。由于分子量高,因此术羔,晶點部位聚合物具有較高的熔點#FormatStrongID_2#在熔化時赢赊,熔體具有較高的粘度。晶點部位聚合物在吹膜或流延時级历,不能與周圍的同種聚合物相互均勻分散释移、混合,并在熔體吹成或流延成薄膜后寥殖,先于周圍的同種聚合物凝固玩讳。因此涩蜘,形成“箭頭狀”或“球狀”過度聚合物的凝固體,習慣上被稱為“晶點”熏纯。

2.晶點產(chǎn)生的原因

物料原因

(1)聚合物中有殘留的催化劑;

(2)聚合物熔體粘滯于生產(chǎn)設(shè)備(包括聚合設(shè)備及吹膜設(shè)備)金屬表面皱坛,在高溫下,殘留的;

(3)催化劑對聚合物繼續(xù)進行催化聚合作用豆巨,因此形成過度聚合物;

聚合物中所含的氧,也會使聚合物熔體產(chǎn)生晶點(加入一定數(shù)量的抗氧劑掐场,有防止氧對晶點的產(chǎn)生作用)往扔。

工藝原因

(1)由聚合工藝所造成的晶點。不同的聚合設(shè)備及工藝熊户,對晶點的生成有不同的影響萍膛。例如:一些名廠原料,因生產(chǎn)技術(shù)高嚷堡,聚合物中殘留的催化劑含量低蝗罗,設(shè)備結(jié)構(gòu)好,因此蝌戒,原料本身所含的晶點少串塑。但一些品質(zhì)較差的原料,因生產(chǎn)技術(shù)及設(shè)備問題北苟,造成原料本身所含的晶點多桩匪。

(2)由工藝所造成的晶點。例如:好的成型設(shè)備所制備的薄膜友鼻,晶點少傻昙。差的設(shè)備所制的薄膜,晶點多彩扔。

3.減少或基本消除晶點的方法

綜上所述妆档,在薄膜吹制工藝中消除晶點,主要有兩個途徑:

(1)提高加工設(shè)備的濾網(wǎng)細度(例如:將濾網(wǎng)改為120目虫碉,甚或150目-用于超薄膜)贾惦。

(2)在生產(chǎn)過程中添加表面潤滑劑,使被加工的聚合物熔體不能粘滯于吹膜設(shè)備表面蔗衡。

從生產(chǎn)工藝上來說纤虽,雖使用較細的濾網(wǎng)可濾除大部份聚合物中的原生晶點,同時亦可濾除設(shè)備螺桿及炮筒部位因聚合物粘滯于螺桿表面所造成的晶點绞惦,但問題是設(shè)備背壓因此提高逼纸,對某些陳舊成型設(shè)備來說,難以做到济蝉。因此杰刽,依靠勤換濾網(wǎng)菠发,也能對控制晶點提供幫助。

到目前為止贺嫂,比較有效的晶點控制手段是采用高性能的氟工藝助劑滓鸠。高性能氟工藝助劑,由于它的聚合物分子具有高極性的特點第喳,使它能從烯烴類聚合物(例如:PE糜俗,PP)熔體中迅速溢出,并粘附于設(shè)備的金屬表面曲饱,從而消除了聚合物熔體在設(shè)備金屬表面的粘滯層悠抹。

因此,聚合物熔體能持續(xù)勻速地被推動前進扩淀,消除了粘滯于金屬表面的聚合物熔體過長時間受熱的現(xiàn)象楔敌,防止了殘留的催化劑對聚合物的持續(xù)聚合,最終防止了在薄膜成型加工工藝中所產(chǎn)生的晶點驻谆。

另一方面卵凑,由于氟工藝助劑也能粘附于濾網(wǎng)表面,使聚合物熔體流經(jīng)濾網(wǎng)的阻力下降胜臊。因此勺卢,氟工藝助劑的使用,為采用較細的濾網(wǎng)提供了工藝條件区端。而較細濾網(wǎng)的采用值漫,對濾除由聚合物生產(chǎn)時所產(chǎn)生的原生晶點,是重要的工藝措施织盼。